RF-PCVD法碳化钨纳米粉的制备

• 作者: 孙彦平 王俊文 闫波 陈新谋
• 来源期刊: 中国钨业
• 学科: 化学
• 关键词: 高频等离子体 化学气相沉积 纳米粉体 碳化钨
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 科学技术
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: O646.9|TF804.6
• 字数: 2180字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0622.2006.04.012

摘要

以WCl6+H2+C2H2为反应体系,采用高频等离子化学气相沉积法(RF-PCVD)制备了纳米级碳化钨(WC)粉体,用HRTEM(高分辨率透射显微镜)、XRD(X光衍射)表征了WC粉体的形貌和物相组成,粉体为以WC为主体、W2C和WC1-x的多相共存的混合体,微粒呈近球形与少量棱柱形混合体,粒径范围为50～100nm,平均粒径为70nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙彦平	太原理工大学洁净化工研究所	136	1387	19.0	29.0
2	王俊文	太原理工大学洁净化工研究所	56	388	11.0	17.0
3	陈新谋		6	60	4.0	6.0
4	闫波	太原理工大学洁净化工研究所	2	12	1.0	2.0