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孤立分散在SiO2基质中的半导体InSb纳米颗粒界面效应的MS-XANES研究
孤立分散在SiO2基质中的半导体InSb纳米颗粒界面效应的MS-XANES研究
作者:
吴自玉
陈栋梁
韦世强
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
InSb纳米颗粒
界面效应
MS-XANES计算
摘要:
利用MS-XANES计算研究了嵌入在SiO2介质中的InSb纳米颗粒的界面效应,结果显示SbK-XANES实验谱在白线峰强度增大和自线峰向高能一侧展宽这两个特点的起因是:1.SiO2介质透过界面处强的Sb-O共价键间接地影响和改变了InSb团簇中Sb原子内部的势分布;2.通过InSb纳米颗粒界面处存在着强的Sb-O共价键使得Sb原子的5p电子被耗尽来提高InSb纳米颗粒Sb原子的5p的空穴数.这两方面共同决定了InSb纳米颗粒的Sb K-XANES实验谱在白线峰强度的增大.此外,由于纳米颗粒的界面效应,仅仅把白线峰的强度增大归因于吸收原子电荷转移带来的空穴数增加,并依此通过白线峰的强度计算吸收原子的空穴数是不合理的.
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内容分析
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文献信息
篇名
孤立分散在SiO2基质中的半导体InSb纳米颗粒界面效应的MS-XANES研究
来源期刊
高能物理与核物理
学科
物理学
关键词
InSb纳米颗粒
界面效应
MS-XANES计算
年,卷(期)
2006,(5)
所属期刊栏目
同步辐射,自由电子激光,核技术应用等
研究方向
页码范围
476-480
页数
5页
分类号
O57
字数
4208字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0254-3052.2006.05.020
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈栋梁
中国科学院高能物理研究所
46
514
13.0
22.0
2
韦世强
中国科学技术大学国家同步辐射实验室
51
239
7.0
14.0
3
吴自玉
中国科学院高能物理研究所
41
387
11.0
18.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
二级参考文献
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(2)
节点文献
引证文献
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同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
2001(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
2006(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2015(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
InSb纳米颗粒
界面效应
MS-XANES计算
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
高能物理与核物理
主办单位:
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
语种:
chi
出版文献量(篇)
2219
总下载数(次)
0
总被引数(次)
4790
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