新型等离子体源及其应用

• 作者: 姜斌 荀本鹏 邱海军
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 表面波等离子体 中性环路放电 等离子体源
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-4,56
• 页数: 5页
• 分类号: TN405.98+2
• 字数: 2318字
• 语种: 中文

摘要

为适应半导体技术的快速发展,需要寻求一些新的等离子体源.介绍了两种比较新颖的等离子体源--表面波等离子体(SWP,surface wave plasma)和磁中性环路放电等离子体(NLD,magnetic neutral loop discharge).前者的设备没有磁场,且结构简单,工作温度低,易于大面积化;而后者的设备可以通过改变其中性环路直径方便地产生各种形状的等离子体,可用于高深宽比刻蚀,也可用于大面积刻蚀.与传统等离子体源相比,它们具有明显的优势,有望成为下一代等离子体源.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜斌	电子科技大学微电子与固体电子学院	21	169	6.0	12.0
2	荀本鹏	电子科技大学微电子与固体电子学院	2	5	2.0	2.0
3	邱海军		2	5	2.0	2.0