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摘要:
制备了挠性印制电路中铜箔与聚酰亚胺基材间的聚酰亚胺粘接材料,由醚酐、脂肪族二胺和4,4'-二氨基二苯醚(ODA)或杂环芳香二胺共聚得到的聚酰亚胺薄膜的成膜性很好.通过红外分析,含ODA聚酰亚胺和含杂环聚酰亚胺薄膜已酰亚胺化完全.其力学性能较好.通过DSC分析,含ODA聚酰亚胺的玻璃化转变温度为141℃,结晶熔融温度为212℃;含杂环聚酰亚胺的玻璃化转变温度为136℃,并在225℃出现了一个吸热峰.采用含ODA或杂环聚酰亚胺胶粘剂制备的双面挠性印制电路基板的平均剥离强度为828.66N/m及710.98N/m.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 聚酰亚胺热熔胶粘剂的合成与性能研究
来源期刊 中国胶粘剂 学科 工学
关键词 热熔胶 聚酰亚胺 挠性印制电路
年,卷(期) 2006,(11) 所属期刊栏目 科研报告
研究方向 页码范围 18-21
页数 4页 分类号 TQ436.4
字数 3291字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-2849.2006.11.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王剑 四川大学高分子科学与工程学院 41 255 8.0 14.0
2 顾宜 四川大学高分子科学与工程学院 103 971 17.0 24.0
3 王劲 四川大学高分子科学与工程学院 12 165 8.0 12.0
4 曾晓丹 四川大学高分子科学与工程学院 1 4 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
热熔胶
聚酰亚胺
挠性印制电路
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国胶粘剂
月刊
1004-2849
31-1601/TQ
大16开
上海市漕宝路36号
4-454
1986
chi
出版文献量(篇)
3748
总下载数(次)
15
总被引数(次)
26906
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