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摘要:
超微粒照相干版是用于生产大规模集成电路的重要工具,在研制过程中解决了"超微粒"、"超洁净"、"超平整度"三项主要技术难关.本项研究工作曾获得北京市科学技术成果一等奖.
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文献信息
篇名 超微粒照相干版生产技术的研究
来源期刊 影像技术 学科 工学
关键词 超微粒照相干版 超解像力 超洁净度
年,卷(期) 2006,(2) 所属期刊栏目 研究与开发
研究方向 页码范围 14-18
页数 5页 分类号 TQ577.2+4
字数 5910字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-0270.2006.02.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王仲钧 5 9 2.0 3.0
传播情况
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2006(0)
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研究主题发展历程
节点文献
超微粒照相干版
超解像力
超洁净度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
影像技术
双月刊
1001-0270
12-1173/TB
大16开
天津市河西区洞庭路20号
6-121
1989
chi
出版文献量(篇)
2616
总下载数(次)
4
总被引数(次)
6555
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