磁头表面含氟三氯硅烷自组装膜的生长机理

• 作者: 胡晓莉 路新春 雒建斌
• 来源期刊: 材料研究学报
• 学科: 化学
• 关键词: 有机高分子材料 含氟三氯硅烷自组装膜 生长机理
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 页码范围: 323-326
• 页数: 4页
• 分类号: O6
• 字数: 2768字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-3093.2006.03.022

摘要

在磁头表面制备了1H,1H,2H,2H-四氢全氟辛烷基三氯硅烷(FOTS)自组装膜,采用X射线光电子能谱仪(XPS)、时间飞行二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、接触角测量仪和原子力显微镜(AFM)对FOTS自组装膜进行表征,研究了自组装膜的生长机理.结果表明,FOTS自组装膜的生长经过了亚单层膜的低等覆盖、亚单层膜的中等覆盖、团聚和聚结四个阶段.其中第一层和第二层自组装膜的亚单层膜形态和生长方式不同,第一层的亚单层膜呈岛状,岛的生长是自身向外扩展;第二层的亚单层膜呈簇状,簇通过数量增加来实现生长.超薄完整的单层FOTS自组装膜(膜厚为0.8 nm、Ra为0.125 nm)能使磁头表面的接触角值增加,疏水性能提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡晓莉	清华大学摩擦学国家重点实验室	4	27	2.0	4.0
3	雒建斌	清华大学摩擦学国家重点实验室	96	1802	22.0	37.0
4	路新春	清华大学摩擦学国家重点实验室	32	285	10.0	15.0