助溶剂对铝合金表面硅烷化预处理的影响

• 作者: 王云芳 王汝敏 郭增昌
• 来源期刊: 中国胶粘剂
• 学科: 工学
• 关键词: 助溶剂 X射线光电子光谱法(XPS) 3-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷 硅烷化
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 所属期刊栏目: 科研报告
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TQ047.5
• 字数: 2205字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2849.2006.04.003

摘要

为了了解3-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷(γ-GPTMS)溶液中助溶剂对水解的γ-GPTMS在铝合金表面的沉积特性的影响,用X射线光电子衍射(XPS)测定了不同助溶剂含量,不同γ-GPTMS浓度的溶液沉积在铝合金表面的硅含量,同时用反射吸收红外光谱(RAIPS)对铝合金表面膜层进行了表征,结果表明,助溶剂对γ-GPTMS在铝合金表面沉积有显著影响,γ-GPTMS的纯水溶液在铝合金表面所形成硅烷化膜层的硅元素量最高,沉积量随溶液中γ-GPTMS浓度的增加而增加.另外,膜层与氧化的铝合金表面之间形成铝硅氧烷(Al-O-Si)共价键,而且γ-GPTMS分子中的烷氧乙基分布在膜层的外表面,具有较大的反应活性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王汝敏	西北工业大学化工系	164	2057	24.0	36.0
2	王云芳	西北工业大学化工系	23	321	9.0	17.0
3	郭增昌	西北工业大学化工系	22	307	9.0	17.0