驻留时间参数优化分析

• 作者: 万勇建 俞敏 杨力
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 工学
• 关键词: 驻留时间 光学加工 计算机控制光学表面成形
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 先进光学制造
• 页码范围: 5-7
• 页数: 3页
• 分类号: TH161
• 字数: 1695字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-3392.2006.01.002

摘要

驻留时间的求解是计算机控制光学表面成形(CCOS)中形的收敛速度和面形精度.提出以面形精度和收敛速度两者加权综合最优的原则,对求解驻留时间的去除系数进行优化,得出其优化式,并对优化式中影响两者权重的系数β进行仿真分析,结果表明口取值[0.1,0.3]时能使驻留时间达到最优.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨力	中国科学院光电技术研究所	66	783	17.0	26.0
2	万勇建	中国科学院光电技术研究所	33	180	8.0	11.0
6	俞敏	中国科学院光电技术研究所	7	76	3.0	7.0