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摘要:
重点描述了三氯硅烷(HSiCl3)的制备和精制工艺.HSiCl3的工业化合成方法主要有Si氨氯化法和SiCl4-H2还原法2种.结合使用先进的精制工艺.产品可满足高端电子产品的需求。同时介绍了HSiCl3的物理和化学性质、应用及经济概况。
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文献信息
篇名 三氯硅烷的制备及精制工艺进展
来源期刊 无机盐技术 学科 工学
关键词 三氯硅烷 三氯氧硅 卤代硅烷 制备 精制
年,卷(期) wjyjs_2006,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 22-28
页数 7页 分类号 TQ264.1
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1 于剑昆 86 542 13.0 17.0
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研究主题发展历程
节点文献
三氯硅烷
三氯氧硅
卤代硅烷
制备
精制
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
无机盐技术
双月刊
天津市丁字沽三号路85号
出版文献量(篇)
2239
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