微弧氧化电压处理钛表面后对钛瓷结合强度的影响

• 作者: 张玉梅 李健学 沈丽娟 黄平
• 来源期刊: 临床口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 微弧氧化 电压 结合强度
• 年，卷（期）: 2006,（9）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 534-536
• 页数: 3页
• 分类号: R783.2
• 字数: 2663字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1634.2006.09.009

摘要

目的:观察钛试样在微弧氧化处理过程中,电源电压不同,形成的氧化膜对钛瓷结合强度的影响.方法:电解液由去离子水和Na2SiO3溶液组成,占空比和频率为0.04、500 Hz,时间3 min,电压分别为Ⅰ组300 V;Ⅱ组350 V;Ⅲ组400 V,分别对钛试样表面进行处理,扫描电镜(SEM)观察膜表面形貌;对不同组别试件进行瓷粉烧结,再采用三点弯曲试验测量钛与瓷的结合强度.结果:随电压的升高,钛试件表面形貌变化较大,微孔直径增大,微孔的数量明显减少,表面变得粗糙不平,氧化膜的厚度也随之增加,从5 μm增加到10 μm;钛与瓷的结合强度随电压增大逐渐降低,但微弧氧化组的结合强度明显高于未行微弧氧化组(P＜0.01).结论:钛在烤瓷前经微弧氧化处理有利于钛与瓷的结合,且微弧氧化过程中不同处理电压对钛瓷结合强度有影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈丽娟	第四军医大学口腔医院修复科	89	615	14.0	18.0
2	张玉梅	第四军医大学口腔医院修复科	83	935	15.0	25.0
3	黄平	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	38	730	14.0	26.0
4	李健学	第四军医大学口腔医院修复科	6	71	5.0	6.0