对光电成像系统干扰效果的评估方法

• 作者: 高卫
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电子对抗 光电干扰 光电成像系统 干扰效果评估 图像处理
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 光电对抗
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TN972
• 字数: 3566字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2006.02.002

摘要

提出了对两类光电成像系统干扰效果的评估准则.对观瞄用光电成像系统,可以根据对成像功能的损伤破坏程度将激光致盲干扰效果划分为四个等级,根据对目标识别的影响程度将烟幕干扰效果划分为三个等级.为定量评估烟幕对观瞄用光电成像系统的干扰效果,可以采用成像系统在实施干扰前后图像之间的相关函数作为评估指标,按照相关函数值的大小将干扰效果划分为三个等级.对跟踪用光电成像系统,可依据有干扰时成像系统能否输出有效跟踪误差以及跟踪误差是否超出正常跟踪精度的三倍判定干扰是否有效,并依据干扰成功率的大小划分干扰等级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高卫		30	344	9.0	18.0