厚胶光刻非线性畸变的校正

• 作者: 刘波 唐雄贵 姚欣 杜惊雷 温圣林 郭永康 高福华
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 物理光学 厚胶光刻 模拟退火算法 非线性畸变 校正 体积偏差
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 仪器、测量与计量
• 页码范围: 1032-1036
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3900字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2006.07.015

摘要

利用厚胶光刻技术制作大深度微结构元件是一种有效的途径,但厚胶光刻过程中的非线性畸变对光刻面形质量的严重影响限制了该技术的应用,基于此,提出了一种对掩模透射率函数进行校正的方法.分析空间像形成及其在光刻胶内传递、曝光、显影等过程中非线性因素的影响,利用模拟退火算法对掩模透射率函数进行校正,以提高光刻面形质量,并以凹面柱透镜为例,给出了校正前后的显影轮廓模拟结果,其校正后浮雕面形的体积偏差仅为2.63%.该方法在有效改善面形质量的同时,并没有引起掩模的设计、制作难度及费用增加,这对于设计、制作高质量的微结构元件有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭永康	四川大学物理科学与技术学院	87	836	16.0	21.0
2	高福华	四川大学物理科学与技术学院	56	392	11.0	16.0
3	姚欣	四川大学物理科学与技术学院	15	85	6.0	8.0
4	刘波	四川大学物理科学与技术学院	71	531	12.0	21.0
5	杜惊雷	四川大学物理科学与技术学院	77	611	13.0	18.0
6	唐雄贵	四川大学物理科学与技术学院	21	174	7.0	12.0
7	温圣林	四川大学物理科学与技术学院	7	38	4.0	6.0