Development of Target （Source） Preparation Technique  With Pulse Electroplating and Direct Current Plating

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Development of Target （Source） Preparation Technique With Pulse Electroplating and Direct Current Plating

作者：

Chun-li Sheng-dong Shu-xin SU YANG ZHANG

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电镀

脉冲

电流

化学实验

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篇名	Development of Target （Source） Preparation Technique With Pulse Electroplating and Direct Current Plating
来源期刊	中国原子能科学研究院年报：英文版	学科	化学
关键词	电镀脉冲电流化学实验
年，卷（期）	zgyznkxyjynbywb_2006,（1）	所属期刊栏目
研究方向		页码范围	168-169
页数	2页	分类号	O6-3
字数		语种	中文
DOI