插层-分解法制备联二脲/蒙脱土新型复合材料

• 作者: 吴大鸣 张凤霞 郭灿雄
• 来源期刊: 北京化工大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 插层-分解 纳米复合材料 联二脲 偶氮二甲酰胺 蒙脱土
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 46-50
• 页数: 5页
• 分类号: TQ32
• 字数: 4474字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4628.2006.06.012

摘要

以二甲亚砜/水为复合分散剂,通过偶氮二甲酰胺的插层-分解过程,制备出亚肼基二甲酰胺(俗称联二脲)插层蒙脱土新型复合材料.采用XRD、NMR、TG-DTA、IR等手段对新材料进行了表征.结果表明,偶氮二甲酰胺进入了蒙脱土层板间,经分解后以联二脲形式存在;蒙脱土层板间距由1.25nm增大至1.95nm;新型复合发泡剂中有机物的质量分数约为16.4%.考察了温度、酸碱性以及复合分散剂中水含量等制备条件对插层效果的影响.当温度为60℃、pH=9且复合分散剂中水含量为10%时,产物的层间距最大,层间有机物的量最多.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴大鸣	北京化工大学新型高分子材料制备与加工北京市重点实验室	211	1233	17.0	23.0
2	郭灿雄	北京化工大学新型高分子材料制备与加工北京市重点实验室	14	388	9.0	14.0
3	张凤霞	北京化工大学新型高分子材料制备与加工北京市重点实验室	1	10	1.0	1.0