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TFA-MOD方法制备YBCO超导薄膜生长研究
TFA-MOD方法制备YBCO超导薄膜生长研究
作者:
刘兴钊
崔旭梅
李言荣
熊杰
田震
陶伯万
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
YBCO超导薄膜
临界电流密度
TFAMOD
摘要:
TFA-MOD方法是制备YBCO涂层导体的最有应用前景的方法之一.本文采用TFA-MOD方法在LaAlO3单晶基片上生长YBCO薄膜并系统地研究了高温退火不同的停留时间对其影响.XRD分析表明退火时间较短时仍有明显的YBCO(00l)取向,但也有其它杂相峰存在,而延长退火时间可以使杂相峰消失而得到纯的且强度更高的YBCO(00l)取向.SEM分析表明未完全结晶的YBCO薄膜表面晶粒大小不一致,而且气孔较多.而结晶良好的YBCO薄膜表面平整致密,空洞较少.随着退火时间的增加YBCO颗粒尺寸在增大.但是,退火时间太长,会有大的空洞,甚至出现裂纹.超导电性能测试表明,随着退火时间的增加超导临界电流(Ic)在增加,但是退火时间达到60min后,Ic即达到最大值,表明60min就能使前驱膜在该实验条件下完全的结晶形成取向良好的YBCO薄膜,YBCO薄膜的生长速度达到0.16nm/s.
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文献信息
篇名
TFA-MOD方法制备YBCO超导薄膜生长研究
来源期刊
功能材料
学科
工学
关键词
YBCO超导薄膜
临界电流密度
TFAMOD
年,卷(期)
2006,(2)
所属期刊栏目
研究与开发
研究方向
页码范围
228-230
页数
3页
分类号
TB43
字数
1906字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1001-9731.2006.02.019
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李言荣
电子科技大学微电子与固体电子学院
115
824
15.0
21.0
2
刘兴钊
电子科技大学微电子与固体电子学院
56
310
9.0
14.0
3
熊杰
电子科技大学微电子与固体电子学院
41
205
6.0
12.0
4
崔旭梅
电子科技大学微电子与固体电子学院
37
143
6.0
11.0
6
陶伯万
电子科技大学微电子与固体电子学院
39
165
5.0
10.0
7
田震
电子科技大学微电子与固体电子学院
2
9
2.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(2)
节点文献
引证文献
(4)
同被引文献
(5)
二级引证文献
(7)
2001(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2003(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2006(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2007(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2009(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2010(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2012(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2015(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2016(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
2017(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
2019(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
YBCO超导薄膜
临界电流密度
TFAMOD
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
功能材料
主办单位:
重庆材料研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-9731
CN:
50-1099/TH
开本:
16开
出版地:
重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
邮发代号:
78-6
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
12427
总下载数(次)
30
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