湿法腐蚀的红外热像对比研究

• 作者: 刘霖 叶玉堂 吴云峰 焦世龙 王昱琳 田骁 范超 陈镇龙
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 工学
• 关键词: 红外热像 湿法腐蚀 半导体
• 年，卷（期）: 2006,（7）
• 所属期刊栏目: 图像和信息处理
• 页码范围: 875-879
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 1442字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-0086.2006.07.025

摘要

提出了一种研究半导体湿法腐蚀进程的红外热像法.将半导体基片浸泡于化学试剂中,利用红外热像仪探测红外腐蚀信号,并由计算机进行处理,得到热像图.对GaAs在不同配比溶剂中的腐蚀进程进行了红外热像的对比研究,结果表明:红外热像法可以观测到对比实验的显著差异,并直观地表征了基片、腐蚀剂以及腐蚀时间的相互关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴云峰	电子科技大学光电信息学院	106	653	13.0	18.0
2	叶玉堂	电子科技大学光电信息学院	170	1471	17.0	30.0
3	焦世龙	电子科技大学光电信息学院	16	90	6.0	8.0
4	陈镇龙	电子科技大学光电信息学院	32	236	7.0	14.0
5	刘霖	电子科技大学光电信息学院	73	411	11.0	16.0
6	范超	电子科技大学光电信息学院	21	102	7.0	8.0
7	王昱琳	电子科技大学光电信息学院	25	115	6.0	9.0