LY12铝合金表面电化学沉积制备DTMS硅烷膜及其耐蚀性研究

• 作者: 刘倞 张鉴清 曹楚南 胡吉明
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 硅烷化处理 电化学沉积 DTMS LY12铝合金 防腐蚀
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 1121-1125
• 页数: 5页
• 分类号: O646|TG174.36
• 字数: 4024字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2006.06.028

摘要

采用电化学技术在LY12铝合金表面沉积制备了十二烷基三甲氧基硅烷(DTMS)膜. 反射吸收红外光谱表明, DTMS硅烷试剂与铝合金基体表面发生了化学键合作用, 生成-SiOAl键实现成膜. 通过对膜覆盖电极在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的电化学阻抗谱(EIS)测试结果表明, 与开路电位下相比, 采用阴极电位沉积方法得到硅烷膜的耐蚀性能有明显提高, 且存在一个最佳"临界电位", 在此电位下沉积得到的硅烷膜具有最高的耐蚀性. 扫描电镜观察结果表明, 在"临界电位"下制备得到的硅烷膜的结构最致密. 给出了硅烷膜覆盖电极的阻抗模型及相关参数的拟合结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹楚南	浙江大学化学系	105	3101	31.0	51.0
3	张鉴清	浙江大学化学系	175	3677	35.0	52.0
7	胡吉明	浙江大学化学系	43	1093	19.0	33.0
8	刘倞	浙江大学化学系	6	247	3.0	6.0