镁合金微弧氧化过程中参数对成膜效果的影响和优化

• 作者: 张永君 李文芳 杜军 黄京浩
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 微弧氧化 电解液浓度 电流密度 电压 氧化时间 峰值平台
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 51-55
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.451
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2006.02.013

摘要

研究了在镁合金微弧氧化过程中电解液浓度、电流密度、氧化时间等参数对生成膜性质的影响.发现在不同的电解液浓度、电流密度条件下,电压都具有峰值平台,但峰值的大小及持续时间随条件的改变而改变.若采用分阶段提升电流密度可使得在电压-时间曲线上获得多个峰值平台,同时控制氧化时间,从而能获得更好的膜层质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文芳	华南理工大学机械工程学院	157	1463	20.0	30.0
2	杜军	华南理工大学机械工程学院	70	628	13.0	22.0
3	张永君	华南理工大学机械工程学院	21	210	10.0	14.0
4	黄京浩	华南理工大学机械工程学院	3	66	3.0	3.0