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摘要:
<正>IELDVD060:9322:29630-279 0600066 在高级复氧化物CMOS工艺中定标p-MOS场效应晶体管STI感应置信度的影响=The impact of STI induced reliabilities for scaled p-MOSFET in an advanced multiple oxide CMOS technology[会,英]/Chung,S. S.//Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits, 2004.IPFA 2004.Proceedings of the 11th International Symposium on the.-279-282(A)
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篇名 可靠性基础、质量管理与控制
来源期刊 电子科技文摘 学科 工学
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年,卷(期) 2006,(4) 所属期刊栏目
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页数 1页 分类号 TP311.5
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电子科技文摘
月刊
1009-0851
11-4388/TN
16开
1999
chi
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