相位解包裹算法中基于调制度的新质量图

• 作者: 刘立人 朱勇建 李大汕 栾竹 阳庆国 鲁伟
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 测量 质量图 移相法 解包裹相位 调制度
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 测量技术
• 页码范围: 667-672
• 页数: 6页
• 分类号: TN911.74
• 字数: 3434字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2006.05.020

摘要

在移相法测量光学波面或物体形貌过程中,相位解包裹是条纹自动分析中的关键技术,而质量图对解包裹相位算法起着至关重要的作用.用计算机模拟干涉图获得相位导数偏差质量图,指出其在标识相位数据质量方面的不足,并根据调制度结合相位梯度构造出新的质量图(称之为调制度-相位梯度偏差质量图)来弥补此缺陷.再以新质量图数据为权值,采用加权最小二乘解包裹算法验证新质量图的可靠性.最后通过实验数据,比较新质量图和相位导数偏差质量图在解包裹相位算法中的作用,得到新质量图的解相结果均方根(RMS)值为2.652 rad,而相位导数偏差质量图的解相结果均方根值为5.151 rad,由此证明前者有更好的可靠性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘立人	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	206	2115	24.0	35.0
2	栾竹	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	45	494	12.0	21.0
3	阳庆国	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	9	105	6.0	9.0
4	鲁伟	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	20	168	8.0	12.0
5	朱勇建	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	5	85	4.0	5.0
6	李大汕	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	7	85	4.0	7.0