铁氰化钾-鲁米诺体系后化学发光反应及其分析应用研究-分子印迹-后化学发光法测定双嘧达莫

• 作者: 冯娜 刘清慧 吕九如
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 后化学发光 分子印迹 流动注射 双嘧达莫
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 页码范围: 1036-1041
• 页数: 6页
• 分类号: O657.39
• 字数: 4809字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2006.06.011

摘要

研究了双嘧达莫在铁氰化钾-鲁米诺化学发光反应体系中的后化学发光反应, 并在研究其反应的动力学性质、化学发光光谱、荧光光谱以及一些相关问题的基础上, 探讨了反应机理;合成了双嘧达莫的分子印迹聚合物, 以此聚合物为分子识别物质, 利用铁氰化钾-鲁米诺-双嘧达莫后化学发光体系, 建立了测定双嘧达莫的高选择性分子印迹-后化学发光分析方法. 所建方法的线性范围为1.0×10-8～1.0×10-6 g/mL(r=0.999 2), 检出限为3×10-9 g/mL, 相对标准偏差为2.7%(1.0×10-7 g/mL双嘧达莫, n=11).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕九如	陕西师范大学化学与材料科学学院	77	1028	19.0	24.0
2	冯娜	陕西师范大学化学与材料科学学院	6	101	4.0	6.0
3	刘清慧	陕西师范大学化学与材料科学学院	1	22	1.0	1.0