丝裂霉素C应用于LASEK手术的临床研究

• 作者: 刘利 唐于荣 智淑平 李锦平 林媛
• 来源期刊: 中国实用眼科杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 丝裂霉素C LASEK
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 论著
• 页码范围: 477-479
• 页数: 3页
• 分类号: R77
• 字数: 3004字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3760/cma.j.issn.1006-4443.2006.05.011

摘要

目的探讨丝裂霉素C(MMC)对准分子激光上皮下角膜磨镶术(LASEK)后角膜上皮下雾状混浊(haze)的预防作用.方法将102例(204眼)受术者随机分为两组,术中MMC组62例(124眼)将浸有0.02%MMC的海绵片覆盖于角膜切削区,覆盖时间据屈光度大小而定;对照组40例(80眼)不使用任何药物.术后定期随访观察两组角膜haze形成、角膜上皮愈合时间及视力恢复情况.结果术后1月、3月、6月MMC组haze轻于对照组,等效球镜值＜8.00D组P＜0.05;等效球镜值≥8.00D组P＜0.01.术后3个月视力恢复在等效球镜值＜8.00D患者中,两组差异无显著性(P＞0.05);等效球镜值≥8.00D患者中,MMC组好于对照组(P＜0.05).两组眼部刺激症状和角膜上皮愈合时间差异均无显著性(P＞0.05).结论LASEK术中应用0.02%MMC可减轻haze的形成,对高度或超高度近视更具有意义.无毒副作用产生.