高岭石/酒石酸插层复合物的制备与表征

• 作者: 汪绪凡 赵顺平
• 来源期刊: 化学工业与工程
• 学科: 地球科学
• 关键词: 高岭石 酒石酸 插层
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 412-415
• 页数: 4页
• 分类号: P619.23+2
• 字数: 2435字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-9533.2007.05.010

摘要

介绍了二甲亚砜(DMSO)取代法制备高岭石/酒石酸(标记为K/T)插层复合物.产物经XRD-6000粉晶衍射和傅立叶变换红外光谱表征.XRD表明:高岭石层间距由0.72 nm扩张到1.09 nm,插层率达50%.红外光谱表明:酒石酸分子的羰基与高岭石的内表面羟基形成了氢键,而羟基与高岭石的硅氧面的氧形成了氢键.酒石酸分子以单分子层平铺于高岭石层间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵顺平	安庆师范学院化学化工学院	8	42	3.0	6.0
2	汪绪凡	安庆师范学院化学化工学院	1	4	1.0	1.0