化学织构化硅表面OTS自组装膜形貌及性能表征

• 作者: 于波 宋仕永 巩育军 庞重军
• 来源期刊: 润滑与密封
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 自组装 OTS 形貌 性能表征
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 112-114,121
• 页数: 4页
• 分类号: TH117.2
• 字数: 2640字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0150.2007.11.032

摘要

用40%NH4F对Si(100)表面进行化学织构化,然后用十八烷基三氯硅烷(OTS)进行分子自组装,在织构化表面谷底区域形成液体凝聚(LC)相分子薄膜.织构化表面的典型山丘直径约30 nm,高约7 nm;典型的LC相OTS单层膜原子力显微镜(AFM)厚度约2.3 nm.随着反应时间的延长,OTS薄膜的LC相面积覆盖率逐渐增加,30 min后达到70%左右的平衡值.OTS组装8 min后的表面静态接触角即达108°左右,且表面接触角不再随反应时间的延长或LC相面积覆盖率的增加而明显变化.组装的OTS薄膜能显著改善织构化硅表面的摩擦学性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巩育军		26	163	6.0	12.0
2	庞重军		11	42	5.0	6.0
3	于波	中国科学院兰州化学物理研究所	63	393	10.0	18.0
4	宋仕永	中国科学院兰州化学物理研究所	2	3	1.0	1.0