ITO和ZnO基底对电化学沉积氧化亚铜薄膜的形貌、结构的影响及作用机制

• 作者: 刘燕刚 张青 王春祥 盛巧蓉 薛敏钊
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化亚铜 电沉积 薄膜 氧化锌
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 18-23
• 页数: 6页
• 分类号: O64
• 字数: 1957字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2007.01.003

摘要

采用电化学恒电位沉积方法在ITO导电玻璃上和在ZnO薄膜上沉积氧化亚铜(Cu2O),并通过X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对晶体的微观结构和表面形貌进行了分析.在ZnO基底上沉积得到了纳米级的Cu2O粒子并且具有明显择优取向,而在ITO导电玻璃上仅得到粒径为2-5 μm的Cu2O粒子,没有明显的择优取向.对薄膜的生长机理进行了讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛敏钊	上海交通大学化学化工学院	48	315	10.0	15.0
2	刘燕刚	上海交通大学化学化工学院	62	558	13.0	20.0
3	张青	上海交通大学化学化工学院	71	654	14.0	24.0
4	盛巧蓉	上海交通大学化学化工学院	12	52	5.0	6.0
5	王春祥	上海交通大学化学化工学院	2	15	2.0	2.0