利用等离子体表面预处理改善光掩模IP胶显影工艺特性

• 作者: 李勇 程秀兰
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: IP胶 光掩模 显影 等离子表面预处理 亲水性
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 16-19
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1886字
• 语种: 中文

摘要

IP胶亲水性较差,在显影时易造成显影不完全.介绍了一种在显影前适当增加等离子体表面预处理,以提高IP胶表面微粗糙度,进而改善IP胶显影特性的方法.研究表明,这种方法可有效地提高IP胶的亲水性和显影均匀性,其中静态接触角可从原来的77°降至45°,而IP胶的厚度损失仅为3 nm～5 nm;同时,还可有效降低由于胶表面的颗粒污染所造成的铬金属点缺陷数量,即从原来的4颗/块降至0.53颗/块.除此之外,这种方法还非常有助于提高具有密集图形和带孔掩模版的图形分辨率和成品率,其中成品损失率可从原来的14%降至处理后的2%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李勇	上海交通大学微电子学院	102	1027	15.0	29.0
3	程秀兰	上海交通大学微电子学院	48	205	5.0	12.0