氧化钴多孔薄膜的电化学制备及其超电容性能

• 作者: 周海晖 孙峰 崔坤在 旷亚非 樊桢 陈金华
• 来源期刊: 湖南大学学报（自认科学版）
• 关键词: 氧化钴 电沉积 多孔 超电容
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 44-48
• 页数: 5页
• 分类号: TM53
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-2472.2007.06.011

摘要

采用恒电流沉积方法,以0.2 mol/L CoS04+1.5 mol/L H2S04为电镀液,在阴极大电流密度下,以氢气泡为模板,在石墨基体上成功制备了CoOx·yH2O多孔薄膜.通过扫描电子显微镜、循环伏安法和恒电流充放电技术等对CoOx·yH20多孔薄膜的形貌及超电容性能进行表征和研究,并对CoOx·yH20多孔薄膜的沉积机理进行了探讨.结果表明:CoOx·yH20薄膜呈纳米/亚微米级的多孔结构,随阴极电流密度的增加,薄膜的孔径增大;同时,膜层具有优异的充放电性能和功率特性,比电容达64.8 F·g-1,并具有良好的稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	旷亚非	湖南大学化学化工学院	102	1586	22.0	34.0
2	周海晖	湖南大学化学化工学院	71	1160	20.0	31.0
3	陈金华	湖南大学化学化工学院	45	619	13.0	24.0
4	樊桢	湖南大学化学化工学院	4	29	2.0	4.0
5	孙峰	湖南大学化学化工学院	2	7	1.0	2.0
6	崔坤在	湖南大学化学化工学院	6	33	3.0	5.0