电子束在微/纳制造中的应用进展

• 作者: 陈炯枢
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束光刻技术 原理 进展
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 6-15,24
• 页数: 11页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 9078字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2007.01.002

摘要

微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一.介绍了近年来电子束光刻技术的研究进展及其在微/纳器件研制中的重要作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈炯枢	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	3	24	2.0	3.0