大气开放式MOCVD氧化镁薄膜的生长及表征

• 作者: 王树彬 韩夏 马学锋
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化镁薄膜 大气开放式金属有机化学气相沉积 X射线衍射 扩散
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 页码范围: 1173-1177,1186
• 页数: 6页
• 分类号: TN304
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.05.041

摘要

以2,4-乙酰丙酮化镁为前驱体,衬底温度为480℃,采用MOCVD工艺,分别在玻璃、氧化铝陶瓷、单晶Si(111)和Si(100)衬底上生长了取向生长的氧化镁薄膜.X射线衍射结果表明,无论是采用玻璃、氧化铝、单晶Si(111)和Si(100)衬底,氧化镁薄膜都是沿着(100)晶面取向生长.通过扫描电镜观察得到,在单晶Si(100)衬底上生长的氧化镁薄膜表面平整致密.模拟卢瑟福背散射结果显示,沉积时间超过70min时,界面处发生硅向氧化镁层少量扩散现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王树彬	北京航空航天大学材料科学与工程学院	18	160	7.0	12.0
2	马学锋	北京航空航天大学材料科学与工程学院	2	3	1.0	1.0
3	韩夏	北京航空航天大学材料科学与工程学院	1	2	1.0	1.0