时效处理对金属铍剩余电阻比的影响

• 作者: A.B.Bondarev V.A.Andreev 张青来 王粒粒 胡永学
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 铍 剩余电阻比 时效处理
• 年，卷（期）: 2007,（7）
• 页码范围: 1124-1128
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.2
• 字数: 5223字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2007.07.017

摘要

运用电位方法测量纯金属铍剩余电阻比,研究了时效处理制度对金属铍的剩余电阻比的影响.结果表明:金属铍的剩余电阻比不仅与时效温度和金属内杂质的浓度有关,而且受时效时间的影响;剩余电阻比值随金属铍样品纯度的增加而增加,纯金属铍(纯度大于99.91%)的剩余电阻比值为20～147,并随时效温度和时效持续时间的不同而变化;高纯度(99.94%)金属铍具有合金时效处理倾向,可以作为时效型微合金来研究杂质对金属的性能影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张青来	江苏大学材料科学与工程学院	25	206	8.0	13.0
2	王粒粒	江苏大学材料科学与工程学院	10	110	5.0	10.0
3	胡永学	江苏大学材料科学与工程学院	9	79	4.0	8.0