高压氘氚气氛下铜对氚的吸附

• 作者: 刘文科 彭述明 曹小华 李海容 杨本福 王维笃 程贵钧 罗顺忠 龙兴贵
• 来源期刊: 核化学与放射化学
• 学科: 化学
• 关键词: 氚 铜 吸附 高压
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 40-43
• 页数: 4页
• 分类号: O647.32
• 字数: 2758字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-9950.2007.01.007

摘要

为了解氚在铜表面的吸附和解吸行为,对铜样品在n(D)∶n(T)=1∶1,503 K时,15 MPa下恒温8 h后,再在27 MPa恒温6 h下进行了氚的吸附,并对吸附氚的铜样品在室温下和加热到1 173 K时的解吸氚量和吸附总氚量进行了测量.结果表明,铜的吸附总氚量为31.89 MBq/cm2,解吸氚量为29.18 MBq/cm2,测量的标准差为6.49%;室温和加热条件下铜所释放的氚中,化学成分主要是HTO和HT,大部分以HT形式存在;铜的自由氚量占吸附总氚量的3.64 %;铜的热解吸谱至少存在3个解吸峰,其解吸温度分别为650,750和1 173 K以上.