TaC涂层的氧化特征与氧化机制

• 作者: 曾玉林 李国栋 熊翔 黄伯云
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: TaC涂层 氧化特征 氧化机理 活化氧化
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 页码范围: 360-367
• 页数: 8页
• 分类号: TG1
• 字数: 6489字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2007.03.002

摘要

用在空气中氧化、氧炔焰超高温烧蚀等方法对TaC涂层在不同温度的氧化特征与氧化机制进行研究.研究结果表明:TaC在508℃以上开始氧化,在508～690 ℃时氧化产物为六角Ta2O3固溶体,690～900 ℃时氧化产物转化为斜方Ta2O5晶体,900～1 500 ℃时氧化产物为斜方Ta2O5,其形态为龟裂或多孔烧结态,未能形成对TaC的隔离保护膜;l 500℃氧化时出现部分Ta2O5液相与Ta2O5斜方相共存的现象;在氧炔焰超高温2 300℃烧蚀时形成大量的Ta2O5熔体液膜,熔体与TaC的润湿性很好.TaC涂层由低温无熔体情况下界面反应控制机制变为氧通过熔体溶解与扩散的控制机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊翔	中南大学粉末冶金国家重点实验室	345	3793	27.0	39.0
2	黄伯云	中南大学粉末冶金国家重点实验室	607	8891	43.0	60.0
3	李国栋	中南大学粉末冶金国家重点实验室	53	255	9.0	11.0
4	曾玉林	中南大学粉末冶金国家重点实验室	2	28	2.0	2.0