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摘要:
研究了2.2 m高真空箱式镀膜机镀膜时的实际膜厚分布情况.对非球面和平面光学元件,分别采用行星夹具和平面公转夹具并利用修正板调节膜厚均匀性.从实验上实现了大口径薄膜均匀性的调节,并获得较为理想的结果.口径在700 mm范围内,对于凹面均匀性可以控制在0.7%以内,平面均匀性在1%以内;口径在1 200 mm范围内凹面元件均匀性可控制在1%以内,平面1 300 mm口径以内窗口均匀性可控制在1%以内.镀制了口径在400~1 300 mm的多种天文观测上使用的反射镜、增透膜等,获得了理想的光谱曲线与较好的使用效果.
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文献信息
篇名 大口径光学元件薄膜厚度均匀性修正
来源期刊 强激光与粒子束 学科 工学
关键词 大口径光学元件 薄膜 均匀性 修正板 修正
年,卷(期) 2007,(7) 所属期刊栏目 ICF与激光等离子体
研究方向 页码范围 1153-1157
页数 5页 分类号 TH74
字数 1890字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 熊胜明 中国科学院光电技术研究所 44 353 11.0 16.0
2 王长军 中国科学院光电技术研究所 4 27 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
大口径光学元件
薄膜
均匀性
修正板
修正
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
强激光与粒子束
月刊
1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
出版文献量(篇)
9833
总下载数(次)
7
总被引数(次)
61664
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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