基于AFM的多图层图形加工

• 作者: 李晓娜 韩立
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: AFM加工 对准精度 多图层图形结构
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 26-30
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2459字
• 语种: 中文

摘要

基于AFM阳极氧化加工理论,对AFM阳极氧化加工技术在多图层图形结构加工制造中的应用开展研究.提出一种新型的基于标记对准的套刻对准方法,并应用具有高分辨率的游标对图形的套刻对准精度进行直观、可靠的测量.实验结果证明,利用所提出的AFM套刻对准方法,能够在不引入复杂光学对准设备的条件下,实现25 nm左右的套刻对准精度,完成具有多图层的纳米级图形结构制备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩立	中国科学院电工研究所	98	376	9.0	13.0
2	李晓娜	中国科学院电工研究所	12	56	4.0	7.0