P型Si(100)化学镀NiP薄膜的制备及性能研究

• 作者: 佟浩 力虎林 王春明
• 来源期刊: 南京航空航天大学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 化学镀 P型Si NiP薄膜 光催化 性能研究
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 页码范围: 343-348
• 页数: 6页
• 分类号: O646
• 字数: 4782字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-2615.2007.03.014

摘要

采用化学镀的方法在组成为NiSO4·6H2O+NaH2PO2·H2O+Na3C6H5O7·H2O的化学镀液中与Pd活化的P型Si(100)表面制备了NiP薄膜,利用X射线能量色散谱(EDX)对NiP薄膜的成分进行了表征.用原子力显微镜(AFM)和电化学阳极溶出(ASV)的方法对不同化学镀时间下的NiP薄膜在Si表面的覆盖度进行了研究.结果表明,在表面覆盖度Г达到4.03×10-8mol/cm2时,表面覆盖达到饱和,此时颗粒大小均一,并分布均匀.以NiP/Si为工作电极,在0.5 mol/L1的H2SO4溶液中分别在光照和暗态条件下对不同化学镀时间的NiP薄膜进行阴极极化扫描,结果表明,在Si表面未完全被覆盖和过度被覆盖的情况下光电催化的性能都没有达到最高,仅当Si表面被完全覆盖时,具有最强的光电催化析氢特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	力虎林	南京航空航天大学材料科学与技术学院	68	1402	21.0	35.0
3	王春明	兰州大学化学化工学院	48	326	11.0	15.0
6	佟浩	南京航空航天大学材料科学与技术学院	6	22	3.0	4.0