交流脉冲参数对TC4钛合金微弧氧化陶瓷膜的影响

• 作者: 章志友 赵晴 陈宁
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 钛合金 占空比 频率 氧化陶瓷膜
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 43-45,66
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.451
• 字数: 1593字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2007.03.016

摘要

为了研究交流脉冲占空比和频率对微弧氧化膜的影响.采用恒电流方式对TC4钛合金进行微弧氧化,用扫描电镜和X衍射仪分析膜层的表面形貌及相结构.结果表明:随占空比的增大,微弧氧化膜层的生长速率增大,金红石相TiO2相对含量增加;随频率的增大,微弧氧化膜层的生长速率减小,表面趋于平整,锐钛矿相和金红石相TiO2相对含量与处理频率无关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵晴		102	1087	20.0	27.0
2	章志友		7	95	5.0	7.0
3	陈宁		9	106	6.0	9.0