酞菁高分子修饰及其光电性质研究进展

• 作者: 何楠 刘莹 庄晓东 林楹 白金瑞 陈彧
• 来源期刊: 化学研究与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 酞菁 高分子修饰 聚合反应 光电性质
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 评论与综述
• 页码范围: 121-130
• 页数: 10页
• 分类号: TQ61
• 字数: 6068字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1656.2007.02.001

摘要

酞菁拥有高度离域的二维18π电子共轭体系、易于调变的分子结构、优良的热和化学稳定性和易于处理加工等特点,可以在很宽的范围内剪裁它们的物理、光电和化学参数,其潜在的巨大应用价值已受到科学与企业界的广泛关注和研究.与[60]富勒烯一样,酞菁分子也可以通过共价键合的方式引入到高分子主链或侧链形成不同类型的高分子,亦可得到诸如酞菁网状高分子和树枝状酞菁大分子等高分子材料;与适宜的高分子材料掺杂或共混能形成含酞菁的高分子复合材料.本文详细地介绍了近年来酞菁高分子修饰与光电性质研究进展.