一种检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法

• 作者: 何乐 施伟杰 王向朝 王帆 马明英
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 测量 激光干涉仪 非正交性 光学对准 工件台 光刻机
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 测量技术
• 页码范围: 1130-1135
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3843字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2007.08.023

摘要

提出一种精确检测光刻机激光干涉仪测量系统非正交性的新方法.将对准标记曝光到硅片表面并进行显影;利用光学对准系统测量曝光到硅片上的对准标记理论曝光位置与实际读取位置的偏差;由推导的位置偏差与非正交因子、坐标轴尺度比例、过程引入误差的线性模型,根据最小二乘原理计算出干涉仪测量系统的非正交性.实验结果表明,利用该方法使用同一硅片在不同旋转角下进行测量,干涉仪测量系统非正交因子的测量重复精度优于0.01 μrad,坐标轴尺度比例的测量重复精度优于0.7×10-6.使用不同的硅片进行测量,非正交因子的测量再现性优于0.012 μrad,坐标轴尺度比例的测量再现性优于0.6×10-6.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王向朝	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	170	1628	23.0	35.0
2	马明英	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	11	60	4.0	7.0
6	王帆	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	20	71	5.0	7.0
10	何乐	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	4	11	2.0	3.0
14	施伟杰	中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室	13	70	4.0	7.0