微晶玻璃研磨抛光超光滑表面粗糙度的工艺研究

• 作者: 刘春红 张庆荣 李成贵 贾世奎
• 来源期刊: 郑州大学学报（工学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 微晶玻璃 研磨抛光 粗糙度 工艺
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 126-128
• 页数: 3页
• 分类号: TQ171.6+84
• 字数: 1452字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-6833.2007.04.031

摘要

研磨抛光采用浸液式定偏心锡磨盘抛光方式,研究抛光液浓度、PH值、上下研磨盘转速、抛光时间等参数对微晶玻璃超光滑表面粗糙度的影响,粗糙度的测量采用NT1100干涉仪.实验结果表明:粗糙度受PH值影响比较大;试件在低浓度弱碱抛光液中,延长抛光时间可降低表面粗糙度值并获得高质量的表面,最终测得表面粗糙度为Ra=0.37 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李成贵	北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院	91	890	16.0	25.0
2	张庆荣	北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院	31	302	11.0	16.0
3	贾世奎	北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院	9	77	5.0	8.0
4	刘春红	北京航空航天大学仪器科学与光电工程学院	6	53	4.0	6.0