ZrW2O8薄膜的物相转变与负热膨胀系数

• 作者: 严学华 徐桂芳 程晓农 肖兆娟
• 来源期刊: 江苏大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 磁控溅射 钨酸锆 热膨胀系数
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 135-137,179
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5|TB43
• 字数: 2362字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7775.2007.02.012

摘要

以高纯ZrO2和WO3复合氧化物为靶材,采用射频磁控溅射方法在石英基片上制备ZrW2O8薄膜.对不同热处理温度后的薄膜进行XRD分析,结果表明,在650 ℃下薄膜为无定形,ZrW2O8晶化起始温度为650 ℃,当热处理温度高于1 100 ℃时,薄膜主要由ZrO2相组成.进一步采用高温XRD分析薄膜物相,发现在720 ℃时,能获得较纯的ZrW2O8薄膜.根据ZrW2O8晶面(2 1 1)间距随温度变化的结果,计算所制备的薄膜态ZrW2O8的热膨胀系数为-2.54×10-5/℃.SEM分析结果显示在ZrW2O8相所存在的温度范围内,薄膜非常致密而无明显孔洞.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程晓农	江苏大学材料科学与工程学院	344	2629	24.0	32.0
2	徐桂芳	江苏大学材料科学与工程学院	50	344	11.0	16.0
3	严学华	江苏大学材料科学与工程学院	46	410	12.0	18.0
4	肖兆娟	江苏大学材料科学与工程学院	3	30	2.0	3.0