超细SiO2的化学沉淀法制备及其原位改性

• 作者: 林金辉 王美平 魏双凤
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学沉淀法 超细SiO2 硅烷偶联剂KH550 原位改性
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 试验与技术
• 页码范围: 841-844
• 页数: 4页
• 分类号: TQ127
• 字数: 2585字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.2007.04.046

摘要

以天然优质粉石英自制的Na2O3.1SiO2为原料、硅烷偶联剂KH550为改性剂、HCl为沉淀剂、聚乙二醇为表面活性剂,采用化学沉淀法制备了超细且分散性好的改性SiO2粉体.研究了硅烷偶联剂KH550对溶液中生成的二氧化硅粒子表面原位改性的影响及机理,优化了制备超细改性SiO2粉体的工艺条件.利用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、红外光谱(FTIR)对制备产物进行了表征.结果表明硅烷偶联剂KH550是有效的改性剂.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林金辉	成都理工大学材料与化学化工学院	117	1392	20.0	31.0
2	魏双凤	成都理工大学材料与化学化工学院	3	24	2.0	3.0
3	王美平	成都理工大学材料与化学化工学院	8	90	6.0	8.0