UV-vis辐照下H2Fe2Ti3O10/TiO2插层材料光催化活性的研究

• 作者: 吴季怀 李涛海 林建明 魏月琳 黄妙良 黄昀昉
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 化学
• 关键词: 光催化活性 插层材料 H2Fe2Ti3O10 TiO2
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 页码范围: 978-984
• 页数: 7页
• 分类号: O643
• 字数: 1954字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.05.006

摘要

在高压汞灯辐照下,通过插入反应将H2Fe2Ti3O10与n-C3H7NH2/C2H5OH和TiO2溶胶制备出H2Fe2Ti3O10/TiO2插层复合物.插入TiO2的层状钙钛矿化合物H2Fe2Ti3O10在UV-vis辐照下表现出高活性.实验结果表明H2Fe2Ti3O10/TiO2作为光催化剂在可见光(λ＞420nm)下辐照24h,降解甲基橙的速率为59.0%.与相同条件下降解率只有24%的商用光催化剂TiO2(Degussa P-25)相比,H2Fe2Ti3O10/TiO2表现出了更高的光催化活性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴季怀	华侨大学材料物理化学研究所	142	1954	23.0	37.0
2	李涛海	华侨大学材料物理化学研究所	7	42	5.0	6.0
3	黄昀昉	华侨大学材料物理化学研究所	27	493	10.0	22.0
4	林建明	华侨大学材料物理化学研究所	94	1395	20.0	34.0
5	黄妙良	华侨大学材料物理化学研究所	63	814	14.0	27.0
6	魏月琳	华侨大学材料物理化学研究所	25	303	11.0	17.0