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大气等离子体抛光技术在超光滑硅表面加工中的应用
大气等离子体抛光技术在超光滑硅表面加工中的应用
作者:
张巨帆
王波
董申
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
大气等离子体抛光法
超光滑表面
单晶硅
电容耦合
摘要:
发展了大气等离子体抛光方法,并用于超光滑表面加工.该技术基于低温等离子体化学反应来实现原子级的材料去除,避免了表层和亚表层损伤.运用原子发射光谱法证明了活性反应原子的有效激发,进而揭示了特定激发态原子对应的电子跃迁轨道.在针对单晶硅片的加工实验中,应用有限元分析法在理论上对加工过程中的空间气体流场分布和样品表面温度分布进行了定性分析.后续的温度检测实验证实了样品表面温度梯度的形成,并表明样品表面最高温度仅为90 ℃.材料去除轮廓检测结果符合空间流场的理论分布模型,加工速率约为32 mm3/min.利用原子力显微镜对表面粗糙度进行测量,证实了加工后样品表面在一定范围内表面粗糙度Ra=0.6 nm.最后,利用X射线光电子谱法研究了该方法对加工后表面材料化学成分的影响.实验和检测结果均表明,该抛光方法可以进行常压条件下的超光滑表面无损抛光加工,实现了高质量光学表面的无损抛光加工.
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文献信息
篇名
大气等离子体抛光技术在超光滑硅表面加工中的应用
来源期刊
光学精密工程
学科
工学
关键词
大气等离子体抛光法
超光滑表面
单晶硅
电容耦合
年,卷(期)
2007,(11)
所属期刊栏目
微纳技术与精密机械
研究方向
页码范围
1749-1755
页数
7页
分类号
TN305.2
字数
3062字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1004-924x.2007.11.019
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
董申
哈尔滨工业大学精密工程研究所
232
4378
35.0
50.0
2
王波
哈尔滨工业大学精密工程研究所
72
602
15.0
22.0
3
张巨帆
哈尔滨工业大学精密工程研究所
6
50
4.0
6.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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节点文献
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1997(1)
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1999(1)
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2000(3)
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二级参考文献(1)
2001(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2003(2)
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二级参考文献(2)
2004(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2005(1)
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2007(0)
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引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
大气等离子体抛光法
超光滑表面
单晶硅
电容耦合
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
主办单位:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国仪器仪表学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-924X
CN:
22-1198/TH
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-166
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
6867
总下载数(次)
10
总被引数(次)
98767
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
武器装备预研基金
英文译名:
官方网址:
项目类型:
武器装备预研基金重点基金项目和武器装备预研基金一般基金项目
学科类型:
黑龙江省自然科学基金
英文译名:
官方网址:
http://jj.dragon.cn/zr/index.asp
项目类型:
学科类型:
期刊文献
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