SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响

• 作者: 于爱芳 刘中星 朱镛 范飞镝 陈创天
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: LiB3O5 SiO2内保护层 倍频增透膜 激光损伤阈值 损伤形貌
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 603-606
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484.4
• 字数: 2732字
• 语种: 中文

摘要

利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1 064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨.实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范飞镝		1	6	1.0	1.0
2	刘中星		1	6	1.0	1.0
3	朱镛		1	6	1.0	1.0
4	陈创天		1	6	1.0	1.0