TiB2镀层制备及其耐腐蚀性能研究

• 作者: 杨少华 王兆文 班允刚 阚洪敏
• 来源期刊: 东北大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 TiB2镀层 Na 铝电解质 渗透
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 材料与冶金
• 页码范围: 1729-1732
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 2063字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-3026.2007.12.015

摘要

介绍了采用K2TiF6-KBF4-KF-KCl-LiF熔盐体系在石墨基体上电沉积制备TiB2镀层的工艺方法,其电解质组成(质量分数,%)为K2TiF615,KBF424,KF48,KCl8,L iF5,电沉积温度为820℃,电沉积时间为3h,电流密度为0.7A/cm2.将所制TiB2镀层作为铝电解实验的阴极,在工业铝电解条件下电解4h,考察了Na和铝电解质对其腐蚀渗透情况.SEM分析结果表明,Na,F,Al等元素渗透到TiB2 镀层的石墨基体中的量很少,而由XRD分析结果可知TiB2镀层的石墨基体中有少量的NaF晶体等,可见TiB2镀层未完全阻止Na的渗透,但却在一定程度上减缓了其渗透速率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王兆文	东北大学材料与冶金学院	89	1018	18.0	27.0
2	杨少华	东北大学材料与冶金学院	12	273	8.0	12.0
3	班允刚	东北大学材料与冶金学院	13	189	8.0	13.0
4	阚洪敏	东北大学材料与冶金学院	11	107	6.0	10.0