时间驱动荧光猝灭法测定痕量Cu(Ⅱ)

• 作者: 夏国朝 徐金明 陶慧林
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 化学
• 关键词: 时间驱动 荧光猝灭 酪氨酸 铜离子
• 年，卷（期）: 2007,（11）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 70-73
• 页数: 4页
• 分类号: O657.3
• 字数: 2881字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0720.2007.11.019

摘要

研究了Cu-酪氨酸荧光静态猝灭体系,络合物为Cu(Tyr)22+,猝灭常数K为1.59×1010.以时间驱动模式代替浓度模式,在pH 8.8的硼砂介质中,测得Cu2+的线性范围为4.00×10-7～1.12×10-5 mol/L和8.00×10-6～1.12×10-4 mol/L,相关系数R=0.9996/0.9992,检出限(3σ)为6.6 × 10-8 mol/L,相对标准偏差(RSD)为0.78%(n=11,C(Cu2+)=2.4×10-6 mol/L).本方法可用于实际样品中痕量铜的测定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶慧林	桂林工学院材料与化学工程系	29	169	7.0	11.0
2	夏国朝	桂林工学院材料与化学工程系	3	8	1.0	2.0
3	徐金明	桂林工学院材料与化学工程系	3	15	2.0	3.0