三倍频分光膜在1064 nm的破斑特性研究

• 作者: 崔云 晋云霞 范正修 赵元安 邵建达
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 激光损伤阈值 破斑深度 缺陷
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1129-1134
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 2132字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2007.06.034

摘要

采用电子束蒸发方式制备了两种不同材料组合的分光膜,分别对其在波长1064 nm激光辐照下的损伤阈值进行了测试,用Alpha-Step 500台阶仪对破斑进行了深度测量.实验结果表明,破斑呈现出表面层的剥落和深坑破坏两种形态.表面层的剥落深度在一定范围内不随能量密度的变化而变化;深坑破坏深浅不一,是膜内缺陷融化、汽化及喷发的综合作用的结果,是损伤阈值降低的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	赵元安	中国科学院上海光学精密机械研究所	47	315	11.0	15.0
4	晋云霞	中国科学院上海光学精密机械研究所	15	122	7.0	11.0
5	崔云	中国科学院上海光学精密机械研究所	21	153	8.0	12.0