二硅化钼材料在CO和N2混合气氛条件下使用时的破坏机理

• 作者: 周继伟 张红波 江莞 王刚
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 二硅化钼 CO和N2混合气氛 破坏机理
• 年，卷（期）: 2007,（z2）
• 页码范围: 449-451
• 页数: 3页
• 分类号: TG146
• 字数: 1860字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185x.2007.z2.130

摘要

考察了二硅化钼电热材料在CO和N2混合气氛条件下使用破坏机理.结果表明,在这种非氧化气份条件下,二硅化钼材料表面很难生成氧化物保护膜;二硅化钼材料表面发生脱硅反应,生成低硅化物,甚至MoC,在表面形成变质层.在频繁的升降温过程中,由于表面变质层与基体的热膨胀系数不同,发生剥落.从而导致二硅化钼材料在这种特出气氛条件下使用寿命的降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王刚	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	164	1405	19.0	32.0
3	江莞	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	37	301	9.0	15.0
6	周继伟		4	13	3.0	3.0
7	张红波		1	3	1.0	1.0