外加电场作用下碳纳米管结构稳定性及结构修饰研究

• 作者: 夏明霞 宁乃东 李红星 蔺西伟 谢中 颜宁
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 碳纳米管 纳米线 结构稳定性 原位生长
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 总论
• 页码范围: 113-116
• 页数: 4页
• 分类号: O6
• 字数: 2400字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.01.018

摘要

利用外加电场的方法,对多壁碳纳米管的结构稳定性进行了研究.结果表明当场强达到30 V/nm时,碳纳米管端部的结构失稳,端部碳原子间的π键被打开,外部原子开始进入到碳纳米管的结构中.利用电子显微镜作为纳米加工仪器,通过外加电场的方法在多壁碳纳米管的端部制备了非晶态碳纳米线,形成碳纳米管-纳米线复合结构.碳纳米管和纳米线结合处的σ键作为绝缘界面,形成了电子输运的势垒.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏明霞	湖南大学微纳技术研究中心	3	8	2.0	2.0
2	宁乃东	湖南大学微纳技术研究中心	3	8	2.0	2.0
3	李红星	湖南大学微纳技术研究中心	4	18	2.0	4.0
4	谢中	湖南大学应用物理系	42	248	9.0	13.0
5	颜宁	湖南大学微纳技术研究中心	1	5	1.0	1.0