电沉积硅烷分子印迹膜修饰电极的制备及其应用

• 作者: 吴霞琴 王桂林 王荣 章宗穰
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 3,4-二羟基苯甲酸 2,4-二羟基苯甲酸 分子印迹技术 硅溶胶-凝胶分子印迹膜 修饰电极
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 130-134
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 3118字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3471.2008.02.004

摘要

以3, 4-二羟基苯甲酸作模板分子,在玻碳电极表面恒电位沉积四甲氧基硅烷和苯基三甲氧基硅烷,经无水乙醇将模板分子洗脱,制得硅溶胶-凝胶分子印迹膜电极.该电极能有效地抑制电化学氧化过程中3, 4-二羟基苯甲酸的电聚合及其同分异构体2,4-二羟基苯甲酸对测定的干扰.实验表明,该修饰电极对3, 4-二羟基苯甲酸测定的线性浓度范围为1.0×10-5～8.0×10-4 mol·L-1,浓度检测下限为5.0×10-6 mol·L-1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴霞琴	上海师范大学生命与环境科学学院化学系	64	611	12.0	21.0
2	章宗穰	上海师范大学生命与环境科学学院化学系	77	518	12.0	18.0
3	王荣	上海师范大学生命与环境科学学院化学系	35	273	9.0	15.0
4	王桂林	上海师范大学生命与环境科学学院化学系	2	23	2.0	2.0